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        產(chǎn)品展示

        非接觸式超聲波DNA打斷儀

        • 更新時(shí)間:2024-12-19
        • 型   號(hào):XODNA -3500W
        • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
        • 訪問(wèn)次數(shù):2498

        非接觸式超聲波DNA打斷儀用途廣泛,主要針對(duì)細(xì)胞的破碎、裂解和細(xì)胞內(nèi)容物顆粒的釋放,以與本公司合作的科研院所研究為例,本儀器尤其適用于腺病毒的微粒釋放,制備高效價(jià)的重組腺病毒,還可以制備病毒DNA,DNA終端蛋白化合物,同時(shí)是土壤樣品制備的理想儀器。已經(jīng)成為CHIP(染色質(zhì)免疫共沉淀)研究平臺(tái)*的標(biāo)準(zhǔn)化工具。

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        產(chǎn)地類(lèi)別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域生物產(chǎn)業(yè)

        發(fā)明號(hào):ZL202221519417.5

        外觀號(hào):ZL202230385316.2

        離心管適配器




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        非接觸式超聲波DNA打斷儀介紹:

        非接觸式超聲波破碎儀,也叫超聲波DNA剪切儀\超聲波DNA打斷儀,其原理是采用干式超聲波傳輸技術(shù)直接穿透離心管,*處于超聲波的作用范圍內(nèi),而非傳統(tǒng)液體作為載體穿透離心管,超聲波能量分散、不聚焦、利用率低等缺點(diǎn),在實(shí)驗(yàn)過(guò)程仲,樣品分別置于獨(dú)立的全密封離心管中,樣本之間不存在任何交叉污染,避免了氣霧的傳播,增強(qiáng)了實(shí)驗(yàn)的生物安全性。

        該儀器用途廣泛,主要針對(duì)細(xì)胞的破碎、裂解和細(xì)胞內(nèi)容物顆粒的釋放,以與本公司合作的科研院所研究為例,本儀器尤其適用于腺病毒的微粒釋放,制備高效價(jià)的重組腺病毒,還可以制備病毒DNA,DNA終端蛋白化合物,同時(shí)是土壤樣品制備的理想儀器。已經(jīng)成為CHIP(染色質(zhì)免疫共沉淀)研究平臺(tái)*的標(biāo)準(zhǔn)化工具。

        非接觸式超聲波DNA打斷儀主要的優(yōu)點(diǎn)有以下:

        (1) 多樣品同時(shí)處理;

        (2) 克服了傳統(tǒng)法易造成污染的缺陷;

        (3) 密閉式樣品處理, 不產(chǎn)生感染性飛霧;

        (4) 短時(shí)間內(nèi)可獲得大的樣品量;

        (5)  大可同時(shí)處理12個(gè)樣品;

        (6)  重復(fù)性較好,實(shí)驗(yàn)效率高;

        (7)  超聲能量分布均勻;

        (8)  不破壞細(xì)胞內(nèi)容物的基本特性。

        技術(shù)參數(shù):

        1. 頻率:20KHz自動(dòng)跟蹤。

        2. 超聲波功率:3500W。

        3. 反應(yīng)容積:不銹鋼。

        4. 單次標(biāo)配破碎容量ml:0.5ml*12個(gè)樣。

        5. 可選配離心管支架:1.5ml管*8孔或2ml管*8孔等非標(biāo)。

        6. 恒溫范圍:0℃~50℃。

        7. 超聲波啟動(dòng)/暫停雙定時(shí)器:觸摸屏可任意設(shè)定時(shí)間。

        8. 超聲頻率:35KHz。

        9. 連續(xù)超聲功能:有。

        10. 儀器保護(hù)功能:超溫、超功、超時(shí)。

        11. 超聲/間隙時(shí)間設(shè)定:0.1~99.9 S。

        12. 總時(shí)間范圍:1 S~99H59M59 S。

        13. 超聲波連續(xù)工作模式:有。

        14. 溫度控制功能:有。

        15. 顯示及控制方式:7寸觸摸屏TFT。

        16. 樣本需在密閉容器下進(jìn)行閉管破碎,不需額外插入超聲波探頭,不產(chǎn)生感染性飛霧, 不會(huì)造成樣本間交叉污染。

        17. 帶消音壓緊裝置。

        18. 電源電壓:AC220V/50HZ。

        19. 具備電腦通訊功能。

        20. 配置要求:觸摸屏超聲波發(fā)生器;不銹鋼樣品處理室(含超聲波換能器+降音蓋);低溫系統(tǒng) ;標(biāo)配適配器。






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